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Concepto de litografía ultravioleta extrema - EUV y EUVL - Patrones de circuito de proyección de pulso láser EUV en una oblea de silicio para producir microchips de próxima generación - Ilustración 3D

Concepto de litografía ultravioleta extrema - EUV y EUVL - Patrones de circuito de proyección de pulso láser EUV en una oblea de silicio para producir microchips de próxima generación - Ilustración 3D

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Tamaño Anchura Altura Mp
s 500 px 302 px 0.5
m 1000 px 604 px 2
l 2000 px 1208 px 8
xl 9659 px 5833 px 15

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